Воронежский «Научно-исследовательский институт полупроводникового машиностроения» - один из ключевых представителей отрасли электронного машиностроения в Российской Федерации и старейшее предприятие-разработчик и изготовитель специального технологического оборудования для производства изделий микроэлектроники.
Исторически сложившаяся специализация института практически не изменилась за последние пятьдесят пять лет, и в таких направлениях, как фотолитография, химическая обработка пластин и фотошаблонов, синтез тонкопленочных покрытий, плазмохимическая обработка, контрольно-измерительное и контрольно-испытательное оборудование институт сохранил и преумножает научно-технический задел , занял лидирующие позиции и продолжает активно развиваться.
За годы работы институтом выполнено более тысячи научно-исследовательских и опытно-конструкторских работ, разработано более 500 образцов технологического, контрольно-измерительного и испытательного оборудования. Изготовлено 10 свыше тысяч единиц современного оборудования для оснащения предприятий радиоэлектронного комплекса .
АО «НИИПМ» сертифицировано по стандарту ISO 9001: 2008 и является членом Международной ассоциации участников космической деятельности МАКД / IASP. АО «НИИПМ» имеет лицензию на осуществление космической деятельности. В рамках совместного проекта с предприятиями Роскосмоса было разработано и изготовлено порядка 18 установок - это первое в России оборудование для сборки и квалификации солнечных батарей нового поколения .
Научно-производственная площадка АО «НИИПМ» включает в себя ряд отделов и лабораторий по разработке оборудования и технологий и производство, состоящее из нескольких цехов. Кадровый потенциал института - это 250 сотрудников Более, около половины которых заняты научной, конструкторской и технологической работой. Среди них доктора и кандидаты наук, инженерно-технические работники.
Оборудование фотолитографии стало одним из приоритетных направлений в НИИПМ еще в 1968 г., когда после успешной разработки первой автоматической однотрековой линии фотолитографии НИИПМ был назначен головным предприятием в министерстве по разработке фотолитографического оборудования. Институт не только оснащал предприятия микроэлектроники прогрессивным высокопроизводительным оборудованием , но и успешно разрабатывал типовые технологии процессов фотолитографии. До сих пор данное направление сохраняет динамику своего развития , создавая оборудование для реализации физико-химических процессов фотолитографии на пластинах и в производстве фотошаблонов , от ручных и полуавтоматических установок до автоматизированных и роботизированных трековых линий и кластеров .
Автоматические фотолитографические кластеры предназначены для проведения операций по формированию слоя резиста перед экспонированием и операций проявления и задубливания резиста после экспонирования . Применение кластерной платформы в оборудовании проведения физико-химических процессов фотолитографии полностью отвечает современным концепциям построения оборудования такого класса . Стоит отметить, что и автоматизированные линии фотолитографии, построенные на трековой платформе, изготавливаемые НИИПМ в последние годы, успешно работают на предприятиях отрасли, обеспечивая высокое качество продукции и производительность.
Автоматизированные линии химического травления и химического нанесения металлических слоев являются отражением современного состояния направления технохимического оборудования в НИИПМ . В основу разработок автоматизированных комплексов химической обработки положено модульное исполнение , предполагающие возможность организации разнообразных технологических процессов, путем комплектования отдельных модулей, использованы новые конструкторские решения в сочетании с полной автоматизацией всех процессов химической обработки , вспомогательных технологических операций и транспортировки. Этот принцип позволяет разработать комплексы оборудования для реализации ряда различных процессов : химическая очистка и травление, селективное автокаталитическое осаждение финишных металлических покрытий на контактные площадки изделия .
Оборудование гидромеханической и мегазвуковой очистки пластин, фотошаблонов, керамических и стеклянных подложек, разрабатываемое АО «НИИПМ», предназначено для односторонней и двухсторонней, индивидуальной и групповой обработки объектов, выполняется в ручном, полуавтоматическом или автоматическом исполнении.
В перечне производимого институтом плазмохимического оборудования представлены установки для плазмо-химической, ионно-плазменной, реактивно-ионной обработки в ручном, полуавтоматическом или автоматизированном исполнении, периодического или непрерывного действия, предназначенного для травления и очистки, для обработки поверхности широкого спектра изделий электронной техники.
Плазмохимическое оборудование, разрабатываемое АО «НИИПМ», предназначено для проведения операций травления, очистки, снятия фоторезиста с пластин при производстве изделий электронной техники, для плазмохимического травления пленок SiO2, ФСС, поли-Si, Si3N4, для обработки поверхности широкого спектра изделий электронной техники с целью удаления остатков органических веществ и окислов, а также для ее активации.
Одним из перспективных направлений института являются разработки по созданию современных устройств ионно-плазменного вакуумного распыления, занявшие прочные позиции в технологиях изготовления полупроводниковых приборов и интегральных микросхем для формирования контактов на поверхности микросхем.
Для проведения климатических испытаний и испытаний на надежность разработан ряд стендов с различным объемом загрузки . Выпускается оборудование для проведения ускоренных испытаний (проходные камеры), работающие совместно с измерителями параметров изделий. НИИПМ разрабатывает и поставляет современные системы для измерения и контроля статических и динамических параметров цифровых интегральных микросхем и дискретных компонентов .
Сохранив свою специализацию, институт продолжает держать курс на инновационное развитие. В планах предприятия - разработка новых перспективных технологий и создание автоматизированных комплексов оборудования .